植田研究室

　◆研究室メンバー

　（メールアドレスは最後に@waseda.jpをつけて下さい）

		氏名	メールアドレス
職員	教授（ＰＩ）	植田　研二	k-ueda
	助教	Jia Siyu

学生	D2 (9月入学) 社会人博士	庄司　駿輔
	D2 (4月入学) 社会人博士	吉田　稜

	M2 (9月入学)	Liu Yipu
	M2 (9月入学)	Chen Yi
	M1 (9月入学)	Cai Jiarui
	M1 (9月入学)	Li Wei
	M1 (9月入学)	Li Kunze
	M1 (9月入学)	Deng Chunbin
	M1 (9月入学)	Li Shanqiu
	M1 (9月入学)	Karin Kanai
	M1 (9月入学)	Yang Haoyu

　　他に4人の研究員が在中

　卒業生
　　2024年 9月卒：Wang Jiteng (M), Liu Runqi (M)
　　2025年 9月卒：Liao Yibing (M)
　　2026年 4月卒：岩根　東輝 (M), 関本　裕斗 (M), Dong Hanjun (M), Fan Bin (M)
　　　　　　　　　　　　　　Siyu Jia (D), 太田　康介 (D, 基幹理工)

　博士論文（主査分）
1. Control of Graphene Film Morphology on Functional Substrates by Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition（2026年3月）
　（プラズマCVD法による機能性基板上でのグラフェン薄膜の形態制御）
Siyu Jia

2. 縦型ダイヤモンドMOSFETsの電流電圧および高周波特性に関する研究（2026年3月）
　（Study on Current-Voltage and High-Frequency Characteristics of Vertical Diamond MOSFETs）
太田　康介（基幹理工学研究科　電子物理システム学専攻）

　学生募集

　　学生募集中です。研究室見学希望等、植田まで気軽にお問合せ下さい。

　　下記の様な方は研究室を一度覗いてみて下さい。
　　　・革新的な半導体材料・デバイス創製を行いたい方
　　　・電子材料のAIエレクトロニクスデバイス応用興味のある方
　　　・材料インフォマティクスに興味のある方

　　卒業学生の主な就職先
　　　テキサスインスツルメンツ、ルネサスエレクトロニクス、三菱重工、
　　　　デンソー、村田製作所、等々

バナースペース