・ イオンビームスパッタ装置

　金属薄膜（主にホイスラー合金等の磁性金属薄膜）の作製を行う為の装置
　　（8種類のターゲットを導入でき、磁気抵抗効果素子等作製の為の多層膜構造作製、
　　アシストイオン銃の利用により窒化物薄膜等の作製やイオンビームアシストによる低温成長可）

　　＜戻る＞